（三）已完成的研究开发工作及中试情况和鉴定年限
1、根据不同的行业应用需求和加工的尺度不同，已完成四种类型样机的研发：
（1）、高速激光图形直写光刻装备应用样机：iGrapher系列
iGrapher专门用于精密电路、光掩模（光罩MASK）、微纳结构无掩模光刻的“高端激光直写设备(UV laser pattern generator)。幅面：8英寸-65英寸，应用90nm-130nm节点（0.22um-0.5um光学分辨率）柔性电路和光掩膜板制备。
iGrapher突破了一系列关键难题技术，实现了上述大幅面微图形高速直写功能，对光掩模文件、集成电路文件全兼容。iGrapher采用高速空间光调制器（spatial light modulation），阵列图形输入模式（可达8k帧）， 3D导航飞行曝光（3D navigation flying exposure）、纳秒时序平铺曝光（parallelism、 nano-second patterning）技术，专用于光掩模、柔性电子的微图形（线宽1um-10um）、LIGA工艺、微纳模具的高效光刻。
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（2）、多功能微图形光刻设备工程样机：Microlab
MicroLab100是一款适应微结构图形光刻的名副其实的小型微加工实验室，系统操作方便在微纳结构功能器件、生物与微纳界面作用（微流控、基因芯片、探针）和光电子、微光学等研究中，MicroLab 是一种理想的、高性价比的微加工手段。尤其适合于小尺寸精密掩膜、CGH、微光学器件、光束整形、MEMS、衍射与折射光学阵列的研制。
MicroLab100支持灰度光刻grayscale lithography，拖曳曝光（形状光阑积分曝光）laser dragging，图形化parallel patterning，3D形貌等高级加工，比如，闪耀槽型、微透镜阵列、多台阶图形、点阵图形等，支持薄胶和厚胶工艺。支持DXF，GDSII，位图文件。只要有基本计算机背景和图像知识，适当培训后，就可以上机操作。支持24小时不间断运行，运行成本低，占地4平方米，基本免维护。适合于科学研究、研究生培养之用途。
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（3）、大幅面微纳金属模具激光加工设备工程样机：iEngraver
大幅面激光精密微加工设备，用于超薄TV背光源金属模具制备。可实现幅面15~70寸。大尺寸精密导光板的模具光学性能为业内做好水平，精密模具加工设备与工艺成熟度得到充分验证，加工的超薄导光板的光学效率、导光均齐度为业内最高水准。
性能参数：最小微结构尺寸15um 激光光源：30kHz@10W 机台：花岗石机台
光学头单次扫描面积：10mmx10mm - 15mmx15mm
加工速率：4-10小时（不同模具尺寸和光学网点）运动平台：直线电机驱动
定位精度：0.1um 行程：根据型号确定
软件：光学设计文档格式，或*.DXF；*.ARR 配套：整套网点设计和处理工艺
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（4）、激光动态图形签注系统
实现了不需要位移和旋转的3D动态图形的实时签注方法和关键技术。采用曲面扩散片实现3D动态图像签注的景深变化，实现签注的动态聚焦，同时设计不同棱角位置与棱角锲角，通过软件控制记录图形的位置，分别对应在相应锲形棱镜位置，一次性签注将能获得不同再现视角的角度与方向的效果。签注效率高，适合工程化应用。
能够同时满足变景深、多视角签注的要求，提高了签注图形技术门槛。图形签注仅需5秒至10秒，能满足激光签注的工程化应用。在工业化应用方面，可应用在银行卡、护照、等证卡的个性化序列号和动态图形的签注，号牌激光安全防伪签注，食品安全三维码溯源签注技术等公共安全领域上。
2、完成场地建设：2000平方米场地。 （1）、机械部件装配间
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