答:用以帮助稳定chamber温度 如何在chamber建立真空?
答:(1) 首先确立chamber parts组装完整(2) 以dry pump作第一阶段的真空建立(3) 当圧力到达100mT时再以turbo pump 抽真空至1mT以下 真空计的功能为何?
答:侦测chamber的压力,确保wafer在一定的压力下 process Transfer module 之robot 功用为何?
答:将wafer 传进chamber与传出chamber之用 何谓MTBC? (mean time between clean)
答:上一次wet clean 到这次wet clean 所经过的时间 RF Generator 是否需要定期检验?
答:是需要定期校验;若未校正功率有可能会变化;如此将影响电浆的组成 为何需要对etch chamber温度做监控?
答:因为温度会影响制程条件;如etching rate/均匀度
为何需要注意dry pump exhaust pressure (pump 出口端的气压)?
答:因为气压若太大会造成pump 负荷过大;造成pump 跳掉,影响chamber的压力,直接影响到run货品质
为何要做漏率测试? (Leak rate )
答: (1) 在PM后PUMP Down 1~2小时后;为确保chamber Run 货时,无大气进入chamber 影响chamber GAS 成份(2) 在日常测试时,为确保chamber 内来自大气的泄漏源,故需测漏 机台发生Alarm时应如何处理?
答:(1) 若为火警,立即圧下EMO(紧急按钮),并灭火且通知相关人员与主管(2) 若是一般异常,请先检查alarm 讯息再判定异常原因,进而解决问题,若未能处理应立即通知主要负责人 蚀刻机台废气排放分为那几类? 答:一般无毒性废气/有毒酸性废气排放 蚀刻机台使用的电源为多少伏特(v)? 答:208V 三相
干式蚀刻机台分为那几个部份?
答:(1) Load/Unload 端 (2) transfer module (3) Chamber process module (4) 真空系统 (5) GAS system (6) RF system

